Inden for halvlederfremstillingsområdet er trinene fra siliciumkrystalvækst til oxidationsdiffusion, fra ætsning til rensning, kvartsstrukturkomponenterne involveret i hele processen. Med udviklingen af avancerede processer bliver tolerancen for forurening med metalurenheder og partikler stadig lavere for hvert trin.
Desyntese kvartshar tallene som høj renhed, ikke boble, ingen inklusionspartikler, høj UV-transmittans osv. Det gør, at den gradvist erstatter de traditionelle naturlige kvartsmaterialer i avancerede fremstillingsprocesser, hvilket kan forbedre udbyttet betydeligt og forlænge levetiden.
Under bombardementet af plasma (indeholdende meget reaktive fluor- og klorbaserede gasser) kræver materialer ekstrem høj kemisk inertitet og korrosionsbestandighed. Samtidig skal kvartsmaterialer have ekstrem høj renhed for at forhindre partikelforurening i at ætse. Ætseringe er forbrugskomponenter; i øjeblikket bruger det meste udstyr naturlig kvarts. Nogle avancerede processer (2nm, 5nm og andre processer under 28nm) har dog erstattet dem med syntetiske kvartsætseringe på grund af streng kontrol over partikler og metalioner.
Et gennemsigtigt kuppelformet observationsvindue installeret i toppen af reaktionskammeret i udstyr til ætsning og tyndfilmaflejring (såsom CVD). Det har ikke kun brug for ekstrem høj renhed for at forhindre urenheder i at forurene proceskammeret, men kræver også visse optiske egenskaber for at tillade lyssignaler fra detektionssystemet at passere igennem til realtidsovervågning af processen. Syntetisk kvarts, med sin ekstremt høje transmittans og høje renhed, er meget udbredt i DOME (Diffusion Oxidation).
I højtemperatur-oxidations-/diffusionsovne tjener den som den rørformede kernebeholder, der holder waferen og udfører procesreaktionen. Ekstremt høj varmebestandighed er påkrævet, hvilket muliggør langtidsdrift ved temperaturer over 1200°C uden at blive blødgjort eller deformeret. Naturlig kvarts, på grund af dets høje Al-indhold og lave hydroxylindhold, opnår høj varmebestandighed og er meget udbredt i ovnrør. Men efterhånden som avancerede processer pålægger stadig strengere kontrol med metalurenheder i kammeret, erstatter meget varmebestandige syntetiske kvartsmaterialer gradvist naturlige kvartsovnsrør.
Anvendes til at holde høj renhed, stærkt ætsende rengøringsopløsninger (såsom SC1, SC2, flussyre, svovlsyre osv.) til våd rengøring af wafers. Kvartsmaterialer har fremragende modstandsdygtighed over for syre- og alkalikorrosion: de kan modstå erosion af næsten alle stærke syrer (undtagen flussyre og varm fosforsyre), hvilket sikrer, at tanken forbliver ukorroderet til langvarig brug. Men ved længere tids brug frigives metalioner i kvartsbeholderen gradvist, hvilket let forårsager forurening. Syntetisk kvarts i PPB-kvalitet reducerer effektivt metalurenhed ionkontamination, og dens boblefrie natur gør den mere velegnet til at behandle glatte, tætte overflader, hvilket reducerer forureningsvedhæftning.
Installeret på UV-hærdningsudstyr fungerer det som et vindue til at transmittere UV-lys. Blandt alle optiske materialer har syntetisk kvarts den højeste transmittans i de dybe ultraviolette (DUV) til ultraviolette (UV) bånd (ned til 185nm). Dens høje styrke og strålingsmodstand sikrer også, at dens ydeevne ikke nedbrydes eller misfarves under langvarig UV-bestråling.
I avancerede emballeringsprocesser (såsom Fan-Out, 2.5D/3D IC) kan syntetiske kvartsbærerwafere bruges som bæreplader til midlertidigt at understøtte, fiksere, transportere og behandle ultratynde wafers eller rekonstruere wafers. Syntetisk kvartsmateriale kan behandles for at opnå fremragende fladhed og stivhed, hvilket giver solid støtte til ultratynde spåner og sikrer procesnøjagtighed.
Semicorex leverer høj kvalitettilpassede kvartskomponentertil forskellig behandling. For skræddersyede løsninger eller yderligere teknisk information, er du velkommen til at kontakte vores ingeniørteam.
Telefon: +86-13567891907
E-mail: sales@semicorex.com