Aluminiumoxid keramisk arm

Semicorex aluminiumoxid keramisk arm er en konstrueret komponent, der er udviklet til de højeste specifikationer for halvlederanvendelser. Fremstillet af aluminiumoxid med høj renhed (Al₂o₃) er det en robotarm, der har en unik kombination af mekanisk styrke, termisk stabilitet og kemisk resistens. Armen er ikke kun designet til at blive brugt til Wafer -håndtering alene, men har også brug for at yde processtøtte på avancerede fabrikationssteder. Det skal også sikre, at skiver overføres, placeres og behandles uden forurening eller skade; Forbedring af udbyttet og pålideligheden af ​​processen.

Aluminiumoxider en af ​​de tekniske keramik, der finder den bredeste anvendelse inden for det tekniske keramiske felt. Aluminiumoxid er kendt for sin hårdhed, slidstyrke og stabilitet i aggressive miljøer. For målene for den keramiske arm til håndtering af Wafer -håndtering uden at indføre Derfor genererer det ikke overdreven partikler under dens gentagne bevægelser, hverken med skiver eller med halvledersubstrater af nogen anden art.  Tætheden og den lave porøsitet, som den også er vært for yderligere, begrænser potentialet for, at partikler bryder fri, og sikrer, at det opfylder de ultra-rene krav til halvlederudviklingsfabs uden at forringe den renhed, der kræves til håndtering af submicron-enhed.

Aluminiumoxidbesidder enestående termisk stabilitet ud over dens mekaniske styrke. Keramisk arm med aluminiumoxid kan udholde ekstreme processtemperaturer uden at fordrive, revne eller miste styrke. Denne egenskab gør den ideel til inkorporering i ethvert processtrin, der inkluderer eksponering for forhøjede temperaturer, som diffusion, oxidation eller annealtrin. Wafers vil have forbedret pålideligheden til overførsel i et udfordrende procesmiljø, da det bevarer mekanisk integritet under termisk cykling.

Kemisk resistens er en anden grundlæggende positiv af aluminiumoxid -keramisk arm. I fremstilling af halvleder udføres behandlinger ofte på skiver, der inkluderer stærke syrer, alkalier og andre aggressive kemikalier. Mens metalliske komponenter kan korrodere eller udvaskes urenheder, er aluminiumoxid kemisk inert, hvilket beskytter integriteten af ​​både armen og de skiver, den håndterer. Derfor forlænger inertness komponentens levetid og reducerer muligheden for kontaminering under kritiske processtrin som vådrensning eller kemisk dampaflejring.

Aluminiumoxid -keramisk arm er designet med fokus på kompatibilitet og præcision. Hver arm er lavet til stramme dimensionelle tolerancer, hvilket sikrer nøjagtig wafer -justering og bevægelse og kompatibilitet med automatiseret waferhåndteringsudstyr og robotsystemer. Den glatte, polerede overfladefinish har en lav friktionsgrænseflade med skiven, der reducerer chancen for at ridse skiven, hvilket er vigtigt for skivens integritet/miljømæssig renlighed og defekt hastighedsreduktion. Disse konstruerede tolerancer sikrer, at armen fungerer frit i et hurtigt tempo miljø med høj gennemstrømning og giver mulighed for både menneskelige og fuldautomatiske halvlederarbejdsgange til armen.

Keramisk armen til aluminiumoxid når ud over bare kemisk og mekanisk ydeevne og påvirker driftseffektiviteten og omkostningsbesparelser på flere niveauer. Den beviste holdbare karakter af keramik gør det muligt for armen at overgå sammensatte materialer som plast eller aluminium med hensyn til design levetid under gentagen mekanisk belastning og reducerer derfor mængden af ​​operationel nedetid og/eller udskiftningsomkostninger involveret. Evnen til at modstå hårde miljøer inkluderer miljømæssig renlighed, samtidig med at man producerer mindre fremstilling af afbrydelser, der fører til forbedret konsekvent skiveproduktion, dvs. udbytte, og i sidste ende mindre skrot, der fører til et højere ROI (afkast på investering) for halvlederproducenter.

Indstillingerne for at brugeAluminiumoxid keramikARM for halvlederprocesser er praktisk talt uendelige - fra bevægelige skiver mellem våde bænke, diffusionsovne og deponeringskamre til inspektion og metrologiværktøjer, der bruger underlag. Alsidigheden af ​​dette produkt tillader ikke kun det at blive brugt til Wafer -håndtering af applikationer, men yderligere automatiseringssituationer, hvor nøjagtighed, renlighed og pålidelighed er påkrævet, er også mulig. Halvlederindustrien bevæger sig ubønnhørligt mod mindre knudepunkter og øget kompleksitet inden for enhedsfremstilling, og når industrien fortsætter med at kræve bedre håndtering af løsninger, der er pålidelige og ikke-kontaminerende, skaber den keramiske robotarm en klar sti fremad.