Tønde-susceptorer er en kritisk komponent, der bruges i forskellige halvlederfremstillingsprocesser, såsom LPE, MOCVD. Semicorex påfører siliciumcarbid med høj renhed i tynde lag på grafitten ved hjælp af den kemiske dampaflejring (CVD) proces, som gør den mterielle halvlederkvalitet med fremragende termisk stabilitet, kemisk resistens og slidstyrke, hvilket gør dem ideelle til brug i høj- temperatur processer.
â SiC-belagt grafit med høj renhed
â Overlegen varmebestandighed og kemikalieresistens
â Høj termisk ensartethed
â Fremragende slidstyrke
Semicorex CVD SiC Coated Barrel Susceptor er en omhyggeligt konstrueret komponent, der er skræddersyet til avancerede halvlederfremstillingsprocesser, især epitaksi. Vores produkter har en god prisfordel og dækker de fleste af de europæiske og amerikanske markeder. Vi ser frem til at blive din langsigtede partner i Kina.
Læs mereSend forespørgselSemicorex Barrel Susceptor Silicon Carbide Coated Graphite er en specialiseret komponent designet til brug i epitaksiprocessen, især til at bære wafers. Kontakt os i dag for at lære mere om, hvordan vi kan hjælpe dig med dine behov for behandling af halvlederwafer.
Læs mereSend forespørgselSemicorex SiC Coated Barrel Susceptor for LPE Epitaxial Growth er et højtydende produkt designet til at give ensartet og pålidelig ydeevne over en længere periode. Dens jævne termiske profil, laminære gasstrømningsmønster og forebyggelse af kontaminering gør det til et ideelt valg til vækst af højkvalitets epitaksiale lag på wafer-chips. Dets tilpasningsmuligheder og omkostningseffektivitet gør det til et yderst konkurrencedygtigt produkt på markedet.
Læs mereSend forespørgselSemicorex Barrel Susceptor Epi System til LPE Epitaxy er et højkvalitetsprodukt, der tilbyder overlegen belægningsvedhæftning, høj renhed og oxidationsbestandighed ved høje temperaturer. Dens jævne termiske profil, laminære gasstrømningsmønster og forebyggelse af kontaminering gør den til et ideelt valg til vækst af epiksiale lag på wafer-chips. Dens omkostningseffektivitet og tilpasningsmuligheder gør det til et yderst konkurrencedygtigt produkt på markedet.
Læs mereSend forespørgselSemicorex Liquid Phase Epitaxy (LPE) Reactor System er et innovativt produkt, der tilbyder fremragende termisk ydeevne, jævn termisk profil og overlegen belægningsvedhæftning. Dens høje renhed, oxidationsbestandighed ved høje temperaturer og korrosionsbestandighed gør den til et ideelt valg til brug i halvlederindustrien. Dens tilpasningsmuligheder og omkostningseffektivitet gør det til et yderst konkurrencedygtigt produkt på markedet.
Læs mereSend forespørgselSemicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor er et meget holdbart og pålideligt produkt til dyrkning af epiksiale lag på wafer-chips. Dens høje temperatur oxidationsmodstand og høje renhed gør den velegnet til brug i halvlederindustrien. Dens jævne termiske profil, laminære gasstrømningsmønster og forebyggelse af kontaminering gør den til et ideelt valg til højkvalitets epiksial lagvækst.
Læs mereSend forespørgsel