Kina Specialgrafit producenter, leverandører, fabrik

Specialgrafit er en slags kunstig grafit, der behandles. Det er et vigtigt materiale, der er uundværligt i alle aspekter af halvleder- og fotovoltaisk fremstillingsproces, herunder krystalvækst, ionimplantation, epitaxy osv.

1. Siliciumcarbid (SIC) krystalvækst

Siliciumcarbid, som et tredje generation af halvledermateriale, er vidt brugt i nye energikøretøjer, 5G-kommunikation og andre felter. I den 6-tommer og 8-tommer SIC-krystalvækstproces bruges isostatisk grafit primært til at fremstille følgende nøglekomponenter:

Grafit Crucible: Dette kan bruges til at syntetisere Sic Powder -råmateriale og også hjælpe med krystalvækst ved høje temperaturer. Dens høje renhed med høj temperatur og termisk stødmodstand sikrer et stabilt krystalvækstmiljø.

Grafitvarmer: Dette giver ensartet varmefordeling, hvilket sikrer SIC-krystalvækst af høj kvalitet.

Isolationsrør: Dette opretholder temperaturuniformitet inden for krystalvækstovnen og reducerer varmetab.

2. ionimplantation

Ionimplantation er en nøgleproces inden for fremstilling af halvleder. Isostatisk grafit bruges primært til at fremstille følgende komponenter i ionimplanter:

Grafit Getter: Dette absorberer urenhedsioner i ionstrålen, hvilket sikrer ionrenhed.

Grafitfokuseringsring: Dette fokuserer ionbjælken og forbedrer ionimplantatnøjagtighed og effektivitet. Grafitsubstratbakker: Bruges til at understøtte siliciumskiver og opretholde stabilitet og konsistens under ionimplantation.

3. Epitaxy -proces

Epitaxy -processen er et kritisk trin i fremstilling af halvlederindretning. Isostatisk presset grafit bruges primært til at fremstille følgende komponenter i epitaxyovne:

Grafitbakker og følgere: bruges til at understøtte siliciumskiver, give stabil understøttelse og ensartet varmeeledning under epitakseprocessen.

4. andre halvlederproduktionsapplikationer

Isostatisk presset grafit bruges også i vid udstrækning i følgende halvlederfremstillingsapplikationer:

Ætsningsproces: Bruges til at fremstille grafitelektroder og beskyttende komponenter til ætsere. Dens korrosionsmodstand og høj renhed sikrer stabilitet og præcision i ætsningsprocessen.

Kemisk dampaflejring (CVD): Bruges til fremstilling af grafitbakker og varmeapparater inden for CVD -ovne. Dens høje termiske ledningsevne og høj temperaturresistens sikrer ensartet tyndfilmaflejring.

Pakningstest: Bruges til fremstilling af testarmaturer og bærerbakker. Dens høje præcision og lave forurening sikrer nøjagtige testresultater.

Fordele ved grafitdele

Høj renhed:

Ved hjælp af høj-renhed erostatisk presset grafitmateriale med ekstremt lavt urenhedsindhold, opfylder det de strenge materielle renhedskrav til fremstilling af halvleder. Virksomhedens egen rensningsovn kan rense grafit til under 5 ppm.

Høj præcision:

Med avanceret behandlingsudstyr og moden behandlingsteknologi sikrer det, at produktets dimensionelle nøjagtighed og form og positionstolerancer når mikronniveauet.

Høj ydeevne:

Produktet har fremragende høj temperaturresistens, korrosionsbestandighed, strålingsmodstand, høj termisk ledningsevne og andre egenskaber, der opfylder de forskellige barske arbejdsvilkår for halvlederproduktion.

Tilpasset service:

Tilpassede produktdesign- og behandlingstjenester kan leveres i henhold til kundens behov for at imødekomme behovene i forskellige applikationsscenarier.

Typer af grafitprodukter

(1) isostatisk grafit
Isostatiske grafitprodukter produceres ved kold isostatisk presning. Sammenlignet med andre formningsmetoder har de digler, der er produceret ved denne proces, fremragende stabilitet. De grafitprodukter, der kræves til SIC -enkeltkrystaller, er alle store i størrelse, hvilket vil føre til ujævn renhed på overfladen og inde i grafitprodukterne, som ikke kan opfylde brugskravene. For at imødekomme de dybe oprensningskrav til storstore grafitprodukter, der kræves til SIC-enkeltkrystaller, bør en unik termokemisk pulsoprensningsproces med høj temperatur vedtages for at opnå dyb og ensartet oprensning af store eller specielle formede grafitprodukter, så renheden af ​​produktoverfladen og kernen kan imødekomme brugskravene.

(2) porøs grafit
Porøs grafit er en type grafit med høj porøsitet og lav densitet. I SIC -krystalvækstprocessen spiller porøs grafit en betydelig rolle i forbedring af masseoverførsel ensartethed, hvilket reducerer forekomsthastigheden for faseændring og forbedrer krystalformen.
Anvendelsen af ​​porøs grafit forbedrer temperatur- og temperaturuniformiteten i råmaterialområdet, øger den aksiale temperaturforskel i digelen og har også en vis effekt på svækket omkrystallisation af råmaterialets overflade; I vækstkammeret forbedrer porøs grafit stabiliteten af ​​materialestrømning gennem vækstprocessen, øger C/SI -forholdet mellem vækstområdet, hjælper med at reducere sandsynligheden for faseændring, og på samme tid spiller porøs grafit også en rolle i forbedring af krystalgrænsefladen.

(3) følte
Blød filt og hård følte både spiller rollen som vigtige termiske isoleringsmaterialer i SIC -krystalvækst og epitaksiale forbindelser.

(4) Grafitfolie
Grafitpapir er et funktionelt materiale fremstillet af grafit med høj kulstofindhold gennem kemisk behandling og rullende høj temperatur. Det har høj termisk ledningsevne, elektrisk ledningsevne, fleksibilitet og korrosionsbestandighed.

(5) sammensatte materialer
Carbon-carbon termisk felt er et af de centrale forbrugsstoffer i fotovoltaisk enkeltkrystallovnsproduktion.

Semicorex -produktion

Semicorex laver grafit med små-batch, tilpassede produktionsmetoder. Produktionen med små batch gør produkterne mere kontrollerbare. Hele processen styres af programmerbare logiske controllere (PLC'er), de detaljerede procesdata blev registreret, hvilket muliggjorde komplet livscyklussporbarhed.

Under hele ristningsprocessen opnåede konsistensen i resistivitet på forskellige steder, og den stramme temperaturstyring opretholdt. Dette sikrer homogeniteten og pålideligheden af ​​grafitmaterialerne.

Semicorex bruger fuldt isostatisk presseteknologi, som er forskellig fra andre leverandører; Det betyder, at grafitten er ultrauniform og er bevist særlig vigtig i epitaksiale processer. De omfattende materialeuniformitetstest blev udført, herunder densitet, resistivitet, hårdhed, bøjningsstyrke og styrke på tværs af forskellige prøver.