Alumina Keramisk Vacuum Chuck

Semicorex Alumina Keramisk Vacuum Chuck spiller en væsentlig rolle i waferfortyndings- og slibningsfaserne af halvlederfremstilling. Disse trin involverer den omhyggelige reduktion af wafersubstrattykkelse for at forbedre chipvarmeafledning, hvilket er afgørende for at forbedre effektiviteten og levetiden af ​​halvlederenheder. Udtynding af wafers til præcise specifikationer er også afgørende for at lette avancerede emballeringsteknikker.

Kompatibilitet med flere waferstørrelser

Alumina keramiske vakuumpatron er designet til at understøtte en bred vifte af waferstørrelser, herunder 2, 3, 4, 5, 6, 8 og 12 tommer. Denne tilpasningsevne gør den velegnet til en bred vifte af halvlederproduktionsmiljøer, hvilket sikrer ensartet og pålidelig ydeevne på tværs af forskellige waferdimensioner.

Overlegen materialesammensætning

Basen på Alumina Ceramic Vacuum Chuck er konstrueret af ultraren 99,99% Alumina (Al2O3), som giver enestående modstandsdygtighed over for kemiske angreb og termisk stabilitet. Adsorptionsoverfladen er lavet af porøst siliciumcarbid (SiC). Den kompakte og ensartede struktur af det porøse keramiske materiale forbedrer dets holdbarhed og ydeevne.

Fordele ved mikroporøs keramisk teknologi

Forbedret fladhed og parallelitet: Den mikroporøse aluminiumoxid keramiske vakuumpatron leverer enestående fladhed og parallelitet, hvilket sikrer præcis waferhåndtering og stabilitet.

Optimal porøsitet og åndbarhed: De godt fordelte mikroporer giver overlegen luftgennemtrængelighed og ensartet adsorptionskraft, hvilket fører til jævn og ensartet drift.

Materialerenhed og holdbarhed: Lavet af 99,99% ren aluminiumoxid, vores aluminiumoxid keramiske vakuumpatron er modstandsdygtig over for kemiske angreb og tilbyder bemærkelsesværdig termisk stabilitet, hvilket gør den velegnet til krævende produktionsmiljøer.

Customizable Designs: Vi tilbyder en række tilpassede former, herunder cirkulære, firkantede, løkkede og L-formede designs, med tykkelsesmuligheder fra 3MM til 10MM. Denne tilpasning sikrer, at vores Alumina Keramiske Vacuum Chuck opfylder de specifikke behov for forskellige halvlederfremstillingsprocesser.

Forskellige valgmuligheder for basismaterialer: Baseret på kravene til planhed og produktionsomkostninger giver vi anbefalinger til forskellige basismaterialer, såsom SUS430 rustfrit stål, aluminiumslegering 6061, tæt aluminiumoxidkeramik (elfenbensfarve), granit og tæt siliciumcarbidkeramik. Hvert materiale er valgt for at optimere vægten og ydeevnen af ​​Alumina Ceramic Vacuum Chuck.