Aluminium Nitride Keramisk Chuck

Aluminium Nitride Ceramic Chuck repræsenterer en banebrydende løsning til halvlederwaferbehandling, specielt designet til sikkert at holde wafers på plads under forskellige stadier af fremstillingen. Denne innovative enhed, der fungerer som en elektrostatisk chuck (ESC), udnytter de exceptionelle egenskaber af aluminiumnitridkeramik for at sikre præcis og pålidelig wafertilbageholdelse.

Semicorex Aluminium Nitride Keramisk Chuck anvender elektrostatiske kræfter til at gribe waferen fast på dens overflade. Dette opnås gennem en omhyggeligt konstrueret plade med integrerede elektroder, som er strategisk forspændt med højspænding. Som følge heraf etableres en elektrostatisk holdekraft mellem pladen og waferen, hvilket effektivt immobiliserer waferen på plads under hele bearbejdningsstadierne.

En af de iøjnefaldende egenskaber ved aluminiumnitrid keramisk chuck er dens bemærkelsesværdige kombination af høj varmeledningsevne og isoleringsegenskaber. Denne unikke blanding af egenskaber gør det til et ideelt materialevalg til ESC-applikationer. Den høje varmeledningsevne sikrer effektiv varmeafledning, hvilket er afgørende for at opretholde ensartet temperaturfordeling over waferen under forarbejdning. Samtidig giver dens exceptionelle isoleringsegenskaber elektrisk isolering mellem patronen og waferen, hvilket minimerer risikoen for elektrisk interferens eller beskadigelse af følsomme halvlederkomponenter.

Den keramiske aluminiumsnitrid-patron giver flere fordele i forhold til traditionelle borepatronmaterialer. Dens robuste konstruktion sikrer langtidsholdbarhed, der er i stand til at modstå de strenge krav fra halvlederfremstillingsmiljøer. Derudover gør dens kompatibilitet med højtemperaturprocesser og modstandsdygtighed over for termisk ekspansion det til et uundværligt værktøj til at opnå ensartede og højkvalitets waferbehandlingsresultater.