Hvorfor er isostatisk grafit meget rost på materialemarkedet?

Naturlige defekter af almindelig grafit:

Almindelig grafit er sammensat af en lagdelt struktur, hvor bindingskraften mellem carbonatomlagene er svag, mens bindingerne i hvert lag er usædvanligt stærke. Denne struktur får den til at have "anisotropiske" egenskaber, hvilket begrænser anvendelsen af ​​almindelig grafit i præcisionsfelter.

Hvad erisostatisk grafit?

Isostatisk grafit er en type kunstig specialgrafit fremstillet ved hjælp af isostatisk presseteknologi. Dets kerneproduktionsprincip er at påføre højt tryk ensartet fra alle retninger for at forme grafitpulveret, og derved opnå en af ​​de mest isotrope kunstige grafit. 

Sammenlignet med andre teknologier har grafitten produceret af denne teknologi flere store ændringer:

1. Densiteten op til 1,9 g/cm³ og forbedret densitetsensartethed (densitetsafvigelse <0,02g/cm³).

2. Øget styrke, bøjningsstyrke op til 75Mpa.

3.Bedre varmeledningsevne og ensartet varmeledningsevne.

4. Fremragende ledningsevne, resistivitet er kun 5-10μΩ·m.

5. Fremragende termisk stødmodstand og lav termisk udvidelseskoefficient ved (2,5-4,5)×10⁻⁶/℃.

6.Høj renhed: askeindhold < 5 ppm.

Anvendelsen af ​​isostatisk grafit

Isostatisk grafit anvendes i flere forskellige industrier og fylder en stor del af markedet.

1. Fotovoltaisk: termisk feltsystem med enkelt krystalovn,smeltedigel, varmeapparat, isoleringcylinder, form,grafit bådog andre nøglekomponenter.

2. Halvleder:  enkeltkrystal siliciumvækstovns termiske felt i waferfremstilling,waferbærerei diffusions-/oxidationsproces,elektrodekomponenterog andre nøglekomponenter.bedemandtil epitaksial vækst.

3. Kerneenergi: kernekomponenter i den fjerde generation af højtemperatur gaskølede reaktorer (såsom reflektorgrafitsten, brændstofkugler osv.), tætningsringe og lejekomponenter i traditionelle trykvandsreaktorer.

2. Halvleder:  enkeltkrystal siliciumvækstovns termiske felt i waferfremstilling,