Hvad er et MOCVD-system?

MOCVD, kendt som Metal-Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD), er en teknik til at dyrke tynde halvlederfilm på et substrat. Med MOCVD kan mange nano-lag aflejres med stor præcision, hver med en kontrolleret tykkelse, for at danne materialer med specifikke optiske og elektriske egenskaber.

Et MOCVD-system er en type kemisk dampaflejring (CVD), der bruger organiske metalprækursorer til at afsætte tynde film af materiale på et substrat. Systemet består af en reaktorbeholder, et gasleveringssystem, en substratholder og et temperaturkontrolsystem. De organiske metalprækursorer indføres i reaktorbeholderen sammen med en bæregas, og temperaturen kontrolleres omhyggeligt for at sikre væksten af ​​en tynd film af høj kvalitet.

Brugen af ​​MOCVD har flere fordele i forhold til andre aflejringsteknikker. En fordel er, at det giver mulighed for aflejring af komplekse materialer med præcis kontrol over tykkelsen og sammensætningen af ​​de tynde film. Dette er især vigtigt for produktionen af ​​højtydende halvlederenheder, hvor materialeegenskaberne af de tynde film kan have en væsentlig indflydelse på enhedens ydeevne.

En anden fordel ved MOCVD er, at den kan bruges til at afsætte tynde film på en række forskellige substrater, herunder silicium, safir og galliumarsenid. Denne fleksibilitet gør det til en væsentlig proces i fremstillingen af ​​en bred vifte af halvlederenheder, fra computerchips til LED'er.

MOCVD-systemer er meget udbredt i halvlederindustrien, og de har været medvirkende til udviklingen af ​​mange avancerede teknologier. For eksempel er MOCVD blevet brugt til at producere højeffektive LED'er til belysnings- og displayapplikationer samt højtydende solceller til fotovoltaiske applikationer.