En kort introduktion til dummy wafers

Avanceret halvlederfremstilling består af flere procestrin, herunder tyndfilmaflejring, fotolitografi, ætsning, ionimplantation, kemisk mekanisk polering. Under denne proces kan selv små fejl i processen have en skadelig effekt på ydeevnen og pålideligheden af ​​de endelige halvlederchips. Derfor er det en væsentlig udfordring at opretholde processtabilitet og konsistens, samt at udføre effektiv udstyrsovervågning. Dummy wafers er afgørende værktøjer, der hjælper med at tackle disse udfordringer.

Dummy wafers er wafers, der ikke bærer egentlige kredsløb og ikke bruges i den endelige chipproduktionsproces. Disseoblaterkan være helt nye, lavere kvalitet test wafers eller regenererede wafers. Til forskel fra dyre produktwafere, der bruges til at fremstille integrerede kredsløb, bruges de typisk til forskellige ikke-produktionsrelaterede, der er essentielle for halvlederproduktion.

Anvendelser af dummy oblater

1.Proceskvalifikation og tuning

Dummy wafers bruges almindeligvis til test forud for disse situationer for at sikre processtabilitet og overensstemmelse med udstyrets ydeevne, såsom før idriftsættelse af nyt procesudstyr, efter vedligeholdelse eller komponentudskiftning af eksisterende udstyr og under udvikling af nye procesopskrifter. Verifikationen af ​​udstyrets ydeevne og den præcise justering af procesparametre kan gennemføres med succes ved at analysere forarbejdningsresultaterne på dummy-waferne, hvilket effektivt reducerer tabet af produktwafere og reducerer produktionsomkostningerne for virksomheder.

2. Udstyrskonditionering og opvarmning

Kammermiljøet i mange halvlederprocesudstyr (f.eks. udstyr til kemisk dampaflejring (CVD), udstyr til fysisk dampaflejring (PVD) og ætsemaskiner) har en betydelig indvirkning på forarbejdningsresultaterne. For eksempel skal belægningsstatus og temperaturfordeling på de indre vægge af kammeret nå en stabil tilstand. Dummy wafers bruges ofte til at konditionere proceskamrene og stabilisere det indre miljø (f.eks. temperatur, kemisk atmosfære og overfladestatus) i kamrene, hvilket effektivt forhindrer procesafvigelser eller defekter i den første batch af produktwafere forårsaget af udstyret ikke fungerer i sin optimale tilstand.

3.Partikelovervågning og kontamineringskontrol

Halvlederfremstilling har ekstremt høje renhedskrav; selv små partikelforurening kan føre til spånfejl. Ved at undersøge partiklerne, der klæber til overfladen af ​​de dummy wafere, der føres ind i udstyret, kan udstyrets renhed evalueres. Produktwafere kan således med succes beskyttes mod kontaminering ved omgående at identificere mulige kontamineringskilder og indføre rengørings- eller vedligeholdelsesprocedurer.

4.Spaltefyldning for batchensartethed

For at opnå gasstrømmen, temperaturfordelingen og reaktantkoncentrationen i proceskammeret er fuld belastningsdrift den almindelige praksis i batchbehandlingsudstyr som diffusionsovne, oxidationsovne eller vådrensningstanke. Dummy wafers bruges til at fylde de tomme spalter i waferbåden, som ikke har et tilstrækkeligt antal produktwafers, hvilket kan reducere kanteffekten og sikre ensartede behandlingsforhold for alle produktwafers, især for dem, der er placeret ved kanterne af waferbåden.

5. Stabilisering af kemisk mekanisk polering (CMP) processer

Dummy wafers kan også bruges i forbehandlingsfasen af ​​CMP-processen for at opretholde processtabilitet. Pre-run test med dummy wafers optimerer ruheden og porøsiteten af ​​polerpuden, minimerer procesusikkerhed under opstartsstabiliseringsfasen eller overgangsfasen før nedlukning og reducerer waferridser og defekter forårsaget af unormal gylletilførsel og slid på hovedmembranen.

Semicorex tilbyder omkostningseffektiveSiC dummy oblater. Hvis du har spørgsmål eller brug for yderligere detaljer, så tøv ikke med at kontakte os.

Kontakt telefon # +86-13567891907

E-mail: sales@semicorex.com