Produkter

View as  
 
TaC Coating Wafer Susceptor

TaC Coating Wafer Susceptor

Semicorex TaC Coating Wafer Susceptor er en grafitbakke belagt med tantalcarbid, der bruges til epitaksial vækst af siliciumcarbid for at forbedre waferkvalitet og ydeevne. Vælg Semicorex for dets avancerede belægningsteknologi og holdbare løsninger, der sikrer overlegne SiC-epitaksiresultater og forlænget susceptorlevetid.*

Læs mereSend forespørgsel
TaC Coating Guide Ringe

TaC Coating Guide Ringe

TaC Coating Guide Rings er grafitringe med en tantalcarbid-coating, designet til brug i siliciumcarbid krystalvækstovne for at forbedre krystalkvaliteten. Vælg Semicorex for dens avancerede belægningsteknologi, der sikrer overlegen holdbarhed, termisk stabilitet og optimeret krystalvækstydelse.*

Læs mereSend forespørgsel
Tantalcarbid guidering

Tantalcarbid guidering

Semicorex Tantalum Carbide Guide Ring er en grafitring belagt med tantalcarbid, brugt i siliciumcarbid krystalvækstovne til frøkrystalstøtte, temperaturoptimering og øget vækststabilitet. Vælg Semicorex for dets avancerede materialer og design, som markant forbedrer effektiviteten og kvaliteten af ​​krystalvækst.*

Læs mereSend forespørgsel
Tantalcarbid ring

Tantalcarbid ring

Semicorex Tantalum Carbide Ring er en grafitring belagt med tantalcarbid, der bruges som en guidering i siliciumcarbid krystalvækstovne for at sikre præcis temperatur- og gasstrømkontrol. Vælg Semicorex for dets avancerede belægningsteknologi og materialer af høj kvalitet, der leverer holdbare og pålidelige komponenter, der forbedrer krystalvæksteffektiviteten og produktets levetid.*

Læs mereSend forespørgsel
SiC O-ring

SiC O-ring

Semicorex SiC O-ring er højt værdsat i en række industrier for deres exceptionelle tætningsevne og materialeegenskaber. Dens anvendelse spænder over applikationer, hvor ekstreme forhold såsom høje temperaturer, aggressive kemikalier, mekanisk stress og streng renlighed er rutine.**

Læs mereSend forespørgsel
TaC Coating Wafer Bakke

TaC Coating Wafer Bakke

Semicorex TaC Coating Wafer Tray skal være konstrueret til at modstå udfordringerne de ekstreme forhold i reaktionskammeret, herunder høje temperaturer og kemisk reaktive miljøer.**

Læs mereSend forespørgsel
X
Vi bruger cookies til at tilbyde dig en bedre browsingoplevelse, analysere trafik på webstedet og tilpasse indhold. Ved at bruge denne side accepterer du vores brug af cookies. Privatlivspolitik
Afvise Acceptere