AlN keramisk skive

AlN Ceramic Disc's varmeledningsevne ligger mellem 170 og 220 W/m.K. Denne termiske ledningsevne er betydeligt højere - 5 til 8,5 gange større - end traditionelle aluminiumoxidkeramik, hvilket gør AlN Ceramic Discs ideelle til applikationer, hvor effektiv varmefjernelse er kritisk. Dette gør dem særligt værdifulde i elektronikindustrien, hvor afgivelsen af ​​varme er altafgørende for at opretholde elektroniske enheders ydeevne og levetid.

Den termiske udvidelseskoefficient for AlN Ceramic Discs svarer til silicium (Si), som spiller en afgørende rolle for at sikre pålideligheden af ​​siliciumchips. Denne lighed hjælper med at minimere termisk stress under temperaturudsving og forbedrer derved holdbarheden og ydeevnen af ​​Si-baserede elektroniske komponenter. Denne egenskab er særlig fordelagtig i højpræcisionsapplikationer, hvor termisk ekspansionsmismatch kan føre til fejl eller reduceret effektivitet.

AlN Ceramic Discs er også kendt for deres høje isolationsmodstand og spændingsmodstandsstyrke. På trods af disse høje isoleringsegenskaber opretholder de en lav dielektrisk konstant og dielektrisk tab, hvilket gør dem ideelle til applikationer inden for elektronikområdet, hvor der kræves elektrisk isolering og effektiv signaltransmission. Disse egenskaber gør det muligt at bruge AlN Ceramic Discs i højfrekvente kommunikationsenheder, hvilket sikrer optimal ydeevne og minimalt energitab.

Den mekaniske styrke af AlN Ceramic Discs er en anden vigtig fordel. Med en mekanisk styrke, der når op til 450 MPa, har disse skiver en meget tæt keramisk krop, der er fri for porøsitet, hvilket forbedrer deres strukturelle integritet og modstandsdygtighed over for mekanisk belastning. Denne robusthed sikrer, at AlN Ceramic Discs kan modstå krævende applikationer uden at gå på kompromis med deres ydeevne eller pålidelighed.

Et andet overbevisende træk ved AlN Ceramic Discs er deres renhed, som kan nå op til 99%. Dette høje renhedsniveau sikrer, at materialet er fri for forurenende stoffer og opfylder strenge sikkerheds- og miljøbestemmelser såsom RoHS og REACH. Den ikke-toksiske natur af AlN keramiske diske gør dem velegnede til en bred vifte af applikationer, inklusive dem, hvor materialesikkerhed er en kritisk bekymring.

I forbindelse med fremstilling af halvledere udviser AlN Ceramic Discs fremragende plasmaresistens. Under halvlederbehandling bruges flygtige forløbergasser, plasma og høje temperaturer til at afsætte tynde film af høj kvalitet på wafere. Holdbarheden af ​​AlN Ceramic Discs gør det muligt for dem at modstå disse barske miljøer, hvilket gør dem perfekte til brug i aflejringskamre og waferhåndteringsværktøjer.

AlN keramiske diske finder forskellige anvendelser på tværs af forskellige industrier. Inden for elektronik fungerer de som substrater for højeffekt elektroniske enheder, hvor deres varmeledningsevne og elektriske isoleringsegenskaber er kritiske. De bruges også som køleplader til højeffekt LED'er, der effektivt håndterer varmeafledning for at sikre optimal ydeevne og lang levetid.

Ud over elektronik anvendes AlN Ceramic Discs i højfrekvente kommunikationsenheder på grund af deres gunstige termiske og elektriske egenskaber. Deres anvendelse strækker sig til lasersystemer og mikrobølgekomponenter, hvor deres evne til at håndtere høj effekt og opretholde signalintegritet er uundværlig.

Desuden bruges AlN keramiske skiver som skærende værktøjer, der udnytter deres fremragende termiske og mekaniske egenskaber til at modstå de høje belastninger og temperaturer, der er involveret i skæreoperationer. Deres evne til at bevare skarphed og holdbarhed under ekstreme forhold gør dem til et foretrukket valg til præcisionsskæring.