Rengøringstank

Semicorex rensetank er fremstillet af kvarts af høj kvalitet, tilbyder uovertruffen ydeevne og pålidelighed, hvilket sikrer, at halvlederwafere er grundigt rengjorte og fri for enhver forurening, der kan kompromittere deres integritet.

Kvarts er valgt til konstruktionen af ​​rensetanken på grund af dens exceptionelle kemiske resistens og termiske stabilitet. Kvarts rensetank modstår de barske kemikalier, der almindeligvis anvendes i rengøringsprocesser, såsom flussyre og andre stærke ætsemidler. Dens termiske stabilitet sikrer, at den kan modstå de høje temperaturer, der ofte kræves i halvlederbearbejdning, uden at deformeres eller nedbrydes, hvilket bevarer dens strukturelle integritet og ydeevne over lange perioder.

Rensetankens design er omhyggeligt konstrueret til at optimere rengøringsprocessen. Dens glatte, sømløse indre minimerer partikeldannelse og forhindrer ophobning af forurenende stoffer. Rensetanken er designet til at rumme forskellige rengøringsmetoder, herunder kemiske bade, ultralydsrensning og megasonisk rengøring. Hver metode har sine specifikke fordele, og rensetankens alsidighed gør det muligt at bruge den i flere faser af rengøringsprocessen, fra den indledende waferrensning til den endelige skylning og tørring.

I kemiske bade sikrer rensetanken, at wafers udsættes ensartet for rengøringsopløsninger, hvilket fremmer ensartet og grundig rengøring. Den ensartede eksponering er afgørende for at fjerne partikler, organiske rester og metalliske forurenende stoffer fra waferoverfladen. Ved ultralyds- og megalydsrensning skaber højfrekvente lydbølger mikroskopiske kavitationsbobler i renseopløsningen. Når disse bobler kollapser, genererer de kraftige stødbølger, der løsner og fjerner forurenende stoffer fra waferoverfladen. Rensetankens robuste kvartskonstruktion kan modstå de intense forhold, der genereres af disse rengøringsmetoder, hvilket sikrer langtidsholdbarhed og effektivitet.