CVD kemiske dampaflejringsovne

Semicorex CVD Chemical Vapor Deposition ovne designet til CVD og CVI, bruges til at afsætte materialer på et substrat. Reaktionstemperaturerne er op til 2200°C. Massestrømskontroller og modulerende ventiler koordinerer reaktant- og bæregasser som N, H, Ar, CO2, methan, siliciumtetrachlorid, methyltrichlorsilan og ammoniak. Aflejrede materialer omfatter siliciumcarbid, pyrolytisk kulstof, bornitrid, zinkselenid og zinksulfid. CVD Chemical Vapor Deposition-ovne har både vandrette og vertikale strukturer.

Anvendelse:SiC-belægning til C/C-kompositmateriale, SiC-belægning til grafit, SiC, BN og ZrC-belægning til fiber mv.

Funktioner af Semicorex CVD Chemical Vapor Deposition ovne

1. Robust design lavet af materialer af høj kvalitet til langvarig brug;

2. Præcis styret gaslevering gennem brug af massestrømsregulatorer og højkvalitetsventiler;

3. Udstyret med sikkerhedsfunktioner såsom overtemperaturbeskyttelse og gaslækagedetektion for sikker og pålidelig drift;

4. Brug af flere temperaturkontrolzoner, stor temperaturensartethed;

5.Specialdesignet aflejringskammer med god tætningseffekt og god anti-kontamineringsevne;

6. Brug af flere aflejringskanaler med ensartet gasstrøm, uden deponeringsdøde hjørner og perfekt aflejringsoverflade;

7. Det har behandling for tjære, fast støv og organiske gasser under aflejringsprocessen

*Ovenstående parametre kan justeres til proceskravene, de er ikke som acceptstandard, detaljeret spec. vil fremgå af det tekniske forslag og aftaler.