Ætsningsholder til PSS Ætsning

Semicorex's Etching Carrier Holder til PSS Etching er konstrueret til de mest krævende epitaksiudstyrsapplikationer. Vores ultra-rene grafitbærer kan modstå barske miljøer, høje temperaturer og hård kemisk rengøring. Den SiC-belagte bærer har fremragende varmefordelingsegenskaber, høj varmeledningsevne og er omkostningseffektiv. Vores produkter er meget udbredt på mange europæiske og amerikanske markeder, og vi ser frem til at blive din langsigtede partner i Kina.

Send forespørgsel

Produkt beskrivelse

Hos Semicorex har vi designet Etching Carrier Holder til PSS Etching specifikt til de barske miljøer, der kræves til epitaksial vækst og waferhåndteringsprocesser. Vores ultra-rene grafitbærer er ideel til tyndfilmaflejringsfaser som MOCVD, epitaksi-susceptorer, pandekage- eller satellitplatforme og waferhåndteringsbehandling såsom ætsning. Den SiC-belagte bærer har høj varme- og korrosionsbestandighed, fremragende varmefordelingsegenskaber og en høj varmeledningsevne. Vores produkter er omkostningseffektive og giver en god prisfordel.

Kontakt os i dag for at lære mere om vores Etching Carrier Holder til PSS Etching.

Parametre for ætsningsholder til PSS-ætsning

Hovedspecifikationer for CVD-SIC belægning
SiC-CVD egenskaber
Krystal struktur	FCC β-fase
Tæthed	g/cm³	3.21
Hårdhed	Vickers hårdhed	2500
Kornstørrelse	μm	2~10
Kemisk renhed	%	99.99995
Varmekapacitet	J·kg-1 ·K-1	640
Sublimeringstemperatur	℃	2700
Feleksural styrke	MPa (RT 4-punkts)	415
Youngs modul	Gpa (4pt bøjning, 1300 ℃)	430
Termisk udvidelse (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Termisk ledningsevne	(W/mK)	300