Produkter

Når det kommer til waferhåndteringsprocesser som epitaksi og MOCVD, er Semicorex's High-Temperature SiC Coating til Plasma Etch Chambers det bedste valg. Vores bærere giver overlegen varmebestandighed, jævn termisk ensartethed og holdbar kemisk resistens takket være vores fine SiC-krystalbelægning.

Semicorex's ICP Plasma Etching Tray er udviklet specifikt til højtemperatur waferhåndteringsprocesser såsom epitaksi og MOCVD. Med en stabil højtemperatur-oxidationsmodstand på op til 1600°C giver vores bærere jævne termiske profiler, laminære gasstrømningsmønstre og forhindrer forurening eller diffusion af urenheder.

Semicorex's SiC Coated bærer til ICP Plasma Etching System er en pålidelig og omkostningseffektiv løsning til højtemperatur waferhåndteringsprocesser såsom epitaksi og MOCVD. Vores bærere har en fin SiC-krystalbelægning, der giver overlegen varmebestandighed, jævn termisk ensartethed og holdbar kemisk resistens.

Semicorex' siliciumcarbidbelagte susceptor til induktivt koblet plasma (ICP) er designet specifikt til højtemperatur-waferhåndteringsprocesser såsom epitaksi og MOCVD. Med en stabil oxidationsmodstand ved høje temperaturer på op til 1600°C sikrer vores bærere jævne termiske profiler, laminære gasstrømningsmønstre og forhindrer forurening eller diffusion af urenheder.

Semicorex's ICP-ætsningswaferholder er den perfekte løsning til højtemperaturwaferhåndteringsprocesser såsom epitaksi og MOCVD. Med en stabil oxidationsmodstand ved høje temperaturer på op til 1600°C sikrer vores bærere jævne termiske profiler, laminære gasstrømningsmønstre og forhindrer forurening eller diffusion af urenheder.

Semicorex's ICP Etching Carrier Plate er den perfekte løsning til krævende waferhåndtering og tyndfilmaflejringsprocesser. Vores produkt giver overlegen varme- og korrosionsbestandighed, selv termisk ensartethed og laminære gasstrømningsmønstre. Med en ren og glat overflade er vores bærer perfekt til håndtering af uberørte vafler.