Produkter

Semicorex's Wafer Holder til ICP Etching Process er det perfekte valg til krævende wafer-håndtering og tyndfilmsdeponeringsprocesser. Vores produkt kan prale af overlegen varme- og korrosionsbestandighed, jævn termisk ensartethed og optimale laminære gasstrømningsmønstre for ensartede og pålidelige resultater.

Semicorex's ICP Silicon Carbon Coated Graphite er det ideelle valg til krævende waferhåndtering og tyndfilmaflejringsprocesser. Vores produkt kan prale af overlegen varme- og korrosionsbestandighed, jævn termisk ensartethed og optimale laminære gasstrømningsmønstre.

Vælg Semicorex's ICP Plasma Etching System til PSS Process for epitaksi og MOCVD processer af høj kvalitet. Vores produkt er udviklet specifikt til disse processer, og tilbyder overlegen varme- og korrosionsbestandighed. Med en ren og glat overflade er vores bærer perfekt til håndtering af uberørte vafler.

Semicorex's ICP Plasma Etching Plate giver overlegen varme- og korrosionsbestandighed til waferhåndtering og tyndfilmaflejringsprocesser. Vores produkt er konstrueret til at modstå høje temperaturer og hård kemisk rengøring, hvilket sikrer holdbarhed og lang levetid. Med en ren og glat overflade er vores bærer perfekt til håndtering af uberørte vafler.

Leder du efter en pålidelig waferbærer til ætseprocesser? Se ikke længere end Semicorex' siliciumcarbid ICP Etching Carrier. Vores produkt er konstrueret til at modstå høje temperaturer og hård kemisk rengøring, hvilket sikrer holdbarhed og lang levetid. Med en ren og glat overflade er vores bærer perfekt til håndtering af uberørte vafler.

Semicorex's SiC-plade til ICP-ætsningsproces er den perfekte løsning til høje temperaturer og skrappe kemiske behandlingskrav i tyndfilmaflejring og waferhåndtering. Vores produkt kan prale af overlegen varmebestandighed og jævn termisk ensartethed, hvilket sikrer ensartet epi-lagtykkelse og modstand. Med en ren og glat overflade giver vores højrente SiC-krystalbelægning optimal håndtering af uberørte wafers.