Sic coating flad del

Semicorex sic coating flad del er en højtydende SIC-coated grafitkomponent, der er specielt designet til SIC-epitaxy-processen. Dens primære funktion er at lette ensartet luftstrømsledning og sikre ensartet gasfordeling i den epitaksiale vækststadium, hvilket gør det til en uundværlig komponent i SIC Semiconductor Manufacturing. Valg af Semicorex garanterer overlegen kvalitet og præcisions-konstruerede løsninger, der er skræddersyet til halvlederindustrien.

SIC-belægningen giver enestående modstand mod høje temperaturer, kemisk korrosion og termisk deformation, hvilket sikrer langvarig ydeevne i krævende miljøer. Grafitbasen forbedrer komponentens strukturelle integritet, mens den ensartede SIC-belægning sikrer en overflade af høj renhed, der er kritisk for følsomme epitakseprocesser. Denne kombination af materialer gør SIC -belægningen flad del til en pålidelig løsning til opnåelse af ensartede epitaksiale lag og optimering af den samlede produktionseffektivitet.

Den fremragende termiske ledningsevne og stabilitet af grafit giver betydelige fordele som en komponent i epitaksialudstyr. Brug af ren grafit alene kan imidlertid føre til flere problemer. Under produktionsprocessen kan ætsende gasser og metalorganiske rester forårsage grafitbasen til at korrodere og forringes, hvilket reducerer dens levetid markant. Derudover kan ethvert grafitpulver, der falder, forurene chippen, hvilket gør det vigtigt at løse disse problemer under fremstillingen af ​​basen.

Belægningsteknologi kan effektivt afbøde disse problemer ved at fastsætte overfladepulver, forbedre termisk ledningsevne og afbalancere varmefordelingen. Denne teknologi er afgørende for at sikre holdbarheden af ​​grafitbasen. Afhængig af applikationsmiljøet og specifikke brugskrav skal overfladebelægningen have følgende egenskaber:

1. høj densitet og fuld dækning: Grafitbasen fungerer i en høj temperatur, ætsende miljø og skal være fuldstændig dækket. Belægningen skal være tæt for at give effektiv beskyttelse.

2. God overfladet fladhed: Den grafitbase, der bruges til enkelt krystalvækst, kræver en meget høj overfladet fladhed. Derfor skal belægningsprocessen opretholde den originale fladhed af basen, hvilket sikrer, at belægningsoverfladen er ensartet.

3. stærk bindingsstyrke: For at forbedre bindingen mellem grafitbasen og belægningsmaterialet er det vigtigt at minimere forskellen i termiske ekspansionskoefficienter. Denne forbedring sikrer, at belægningen forbliver intakt, selv efter at have gennemgået termiske cyklusser med høj og lav temperatur.

4. høj termisk ledningsevne: For optimal chipvækst skal grafitbasen give hurtig og ensartet varmefordeling. Derfor skal belægningsmaterialet have høj termisk ledningsevne.

5. Højt smeltepunkt og modstand mod oxidation og korrosion: Belægningen skal være i stand til at fungere pålideligt i høj-temperatur og ætsende miljøer.

Ved at fokusere på disse nøgleegenskaber kan levetiden og ydelsen af ​​grafitbaserede komponenter i epitaksialudstyr forbedres markant.

Med avancerede fremstillingsteknikker leverer Semicorex tilpassede design til at imødekomme specifikke procesbehov. Sic Coating Flat -delen testes nøje for dimensionel nøjagtighed og holdbarhed, hvilket afspejler Semicorexs forpligtelse til ekspertise inden for halvledermaterialer. Uanset om det bruges i masseproduktions- eller forskningsindstillinger, sikrer denne komponent præcis kontrol og højt udbytte i SIC Epitaxy -applikationer.