Silikone piedestal

Semicorex Silicon Piedestal, en ofte overset, men kritisk vigtig komponent, spiller en afgørende rolle i at opnå præcise og gentagelige resultater i halvlederdiffusion og oxidationsprocesser. Den specialiserede platform, som siliciumbåde hviler på i højtemperaturovne, tilbyder unikke fordele, som direkte bidrager til øget temperaturensartethed, forbedret waferkvalitet og i sidste ende overlegen ydeevne af halvlederenheder.**

Send forespørgsel

Produkt beskrivelse

1. Semicorex siliciumsokkel stabiliserer behandlingsmiljøet for optimale resultater:

Oprettelse af et stabilt fundament for krystalbåde:Siliciumsøjlen giver en robust og termisk stabil platform til siliciumbåde i højtemperaturovnskammeret. Denne stabilitet sikrer, at bådene bevarer deres position og orientering gennem hele processen, hvilket forhindrer uønsket bevægelse eller vipning, der kan forstyrre gasstrømmens dynamik og kompromittere temperaturens ensartethed.

Forbedring af temperaturensartethed i reaktionskammeret:Ved effektivt at isolere siliciumbåden fra ovnens gulv og vægge minimerer siliciumsøjlen varmetab gennem ledning og fremmer en mere ensartet temperaturfordeling i det termiske reaktionsrør. Denne forbedrede termiske styringsevne er afgørende for at opnå ensartede og repeterbare diffusions- eller oxidationsprofiler på tværs af hele waferoverfladen.

Forøgelse af isoleringseffektiviteten til optimeret energiforbrug:Siliciumsokkelens iboende varmeisoleringsegenskaber bidrager til en mere energieffektiv proces ved at minimere varmetabet til det omgivende miljø. Dette oversættes til hurtigere opvarmnings- og afkølingscyklusser, reduceret energiforbrug og i sidste ende lavere samlede behandlingsomkostninger.

2. Materialesynergi for overlegen waferkvalitet:

Matchende termisk udvidelse for reduceret waferspænding:Siliciumsøjlen, fremstillet af det samme højrente siliciummateriale som bådene og waferne selv, tilbyder en afgørende fordel i forhold til alternative materialer som kvarts eller siliciumcarbid. Denne materialesynergi sikrer, at piedestalen, båden og waferne udvider sig og trækker sig sammen med næsten identiske hastigheder under opvarmnings- og afkølingscyklusser, hvilket minimerer risikoen for termisk stress, wafer-bugning og krystallografiske defekter, der kan påvirke enhedens udbytte og ydeevne negativt.

Minimering af kontaminering og gittermismatch:Brugen af højrent silicium til både siliciumsøjlen og båden eliminerer potentialet for forurening fra uens materialer, hvilket sikrer et uberørt behandlingsmiljø for waferne. Denne materialekompatibilitet minimerer også risikoen for gittermismatch ved wafer-båd-grænsefladen, hvilket yderligere bidrager til forbedret krystalkvalitet og reducerede defekttætheder.