TaC coated planetarisk plade

Semicorex TaC Coated Planetary Plate fungerer som en nøglekomponent i MOCVD-reaktorer og udviser et planetarisk design, der er karakteriseret ved adskillige waferlommer arrangeret langs overfladen. Disse lommer er specielt skabt til pålideligt at rumme waferne under vækstfasen af ​​ethvert epitaksialt lag, stabilisere substratwafere og minimere substratbevægelse under forhøjede procestemperaturer. Den nøjagtige lommegeometri giver ensartet waferplacering, der er vigtig for ensartet tykkelse af epitaksiale lag og ensartethedsniveauer af substratdefekter for alle wafers, der dyrkes under den samme proces.

Et vigtigt designaspekt af den planetariske plade er endnu en gang den konstruerede spredning af fine gasstrømningshuller langs pladens overflade. Disse huller er omhyggeligt designet og strategisk placeret specifikt til at måle strømmen af ​​forstadiegasser i reaktoren, så ensartet gasspredning og jævn aflejring opnås blandt hver wafer. I enhver MOCVD-proces er aspekter af gasdynamik kritiske til at bestemme filmkvaliteter, tykkelsesensartethed og enhedens overordnede ydeevne. Det optimerede huldesign påTaC belagtPlanetary Plate sikrer, at alle wafere oplever de samme procesforhold, hvilket giver en optimal måde at forbedre udbytte og reproducerbarhed på.

DeTaC (tantalcarbid) belægningforlænger ydeevnen og levetiden for planetpladen yderligere. Tantalcarbid er ekstremt hårdt, kemisk inert og termisk ledende, hvilket gør det til en fremragende belægning til ekstreme MOCVD-miljøer. Under epitaksi vil komponenterne i reaktoren støde på høje temperaturer, reaktive forløbergasser og plasmaeksponering. TaC-belægningen tjener som en robust barriere mod korrosion, oxidation og partikeldannelse, hvilket resulterer i en betydelig forlængelse af planetpladens levetid end en ubelagt eller konventionelt belagt plade.

Den TaC-coatede planetariske plades levetid og holdbarhed gør den til et omkostningseffektivt valg til MOCVD-systemer. Det holdbare TaC-lag kan modstå gentagne termiske cyklusser og udsættelse for ekstreme procesgasser, samtidig med at den strukturelle integritet og stabilitet af ydeevnen bibeholdes, mens den opererer over længere tidsrammer.