TaC Coating Upper Halfmoon

Semicorex TaC Coating Upper Halfmoon er en specielt designet komponent, der er skræddersyet til at opnå højeffektive epitaksiale processer inden for halvlederproduktion.

TaC-coatingen tilbyder fremragende modstandsdygtighed over for høje temperaturer, hvilket gør TaC Coating Upper Halfmoon ideel til de krævende termiske miljøer af epitaksiale processer. Dette sikrer ensartet ydeevne og lang levetid, hvilket reducerer hyppigheden af ​​udskiftninger og nedetid. TaC Coating Upper Halfmoon kan modstå ætsende gasser og kemikalier, der almindeligvis anvendes i epitaksial vækst, beskytter komponentens integritet og bibeholder processens renhed.

Den glatte og ensartede TaC-belægning forbedrer kvaliteten af ​​epitaksiale lag ved at minimere defekter og urenheder. Dette bidrager til højere udbyttesatser og overlegne elektroniske egenskaber for halvlederenhederne. Kombinationen af ​​termisk og kemisk resistens forlænger levetiden af ​​TaC Coating Upper Halfmoon, hvilket giver en omkostningseffektiv løsning til at opretholde høj gennemstrømning og effektivitet i halvlederfremstilling.

Ansøgninger:

Højtemperatur-kemiske dampaflejringsprocesser (CVD).

Siliciumcarbid (SiC) og Galliumnitrid (GaN) epitaksi

Tekniske specifikationer:

Materiale: Tantalcarbide (TaC) belægning

Temperaturområde: Op til 2200°C

Kemisk resistens: Fremragende mod HF, HCl og andre ætsende gasser

Dimensioner: Kan tilpasses til at passe til specifikke reaktormodeller

Semicorex TaC Coating Upper Halfmoon er en essentiel komponent for at opnå epitaksiale lag af høj kvalitet med forbedret effektivitet og reducerede kontamineringsrisici. Dens avancerede materialeegenskaber og præcise konstruktion gør den til et værdifuldt aktiv i halvlederindustrien, der understøtter produktionen af ​​næste generations elektroniske enheder.