Tantalkarbidbelægning Halvmånedel

Semicorex tantalcarbid-coating-halvmånedelen er en højt specialiseret komponent beregnet til påføring i den epitaksiale aflejringsprocessen. Denne tantalcarbid-coatede halvmånedel er afgørende i miljøer, hvor modstand mod høje temperaturer, enestående holdbarhed og uovertruffen kemisk inertitet er bydende nødvendigt.

Tantalcarbide Coating Halfmoon Part er konstrueret af højrent tantalcarbid, der tilbyder fremragende termisk ledningsevne og ekstrem modstandsdygtighed over for høje temperaturer og termiske stød. TaC-belægningen giver et ekstra lag af beskyttelse mod ætsende kemikalier og barske miljøer, der er typiske i epitaksiale reaktorer. Belægningen forbedrer delens holdbarhed og levetid, hvilket sikrer ensartet ydeevne over flere cyklusser.

Tantalcarbide Coating Halfmoon Part er i stand til at modstå temperaturer op til 2200°C, hvilket gør den ideel til højtemperaturprocesser. Udviser lav reaktivitet med silicium og andre halvledermaterialer, og opretholder integriteten af ​​de epitaksiale lag.

Tantalcarbide Coating Halfmoon Part, der primært anvendes i halvlederindustrien, specifikt i epitaksial vækst af siliciumcarbid. Velegnet til brug i både forskningsreaktorer og epitaksiale reaktorer i industriel skala.