Wafer Carrier til MOCVD

Semicorex Wafer Carrier til MOCVD, lavet til de præcise behov for Metal Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD), fremstår som et uundværligt værktøj i behandlingen af enkeltkrystal Si eller SiC til integrerede kredsløb i høj skala. Wafer Carrier til MOCVD-sammensætningen kan prale af uovertruffen renhed, modstandsdygtighed over for forhøjede temperaturer og korrosive miljøer og overlegne forseglingsegenskaber for at opretholde en uberørt atmosfære. Vi hos Semicorex er dedikeret til at fremstille og levere højtydende Wafer Carriers til MOCVD, der forener kvalitet med omkostningseffektivitet.

Send forespørgsel

Produkt beskrivelse

Semicorex Wafer Carrier til MOCVDs avancerede design til MOCVD-applikationer fungerer som et sikkert fundament, ekspertdesignet til at vugge halvlederwafers. Det tilbyder et optimeret design, der sikrer et stramt greb om waferne og letter en optimal fordeling af gasser for ensartet materialelag. Forbedret med en siliciumcarbid-belægning (SiC) gennem kemisk dampaflejring (CVD), kombinerer Wafer Carrier til MOCVD grafittens modstandsdygtighed med CVD SiC's egenskaber ved at tåle høje temperaturer, har en ubetydelig termisk udvidelseskoefficient og fremmer udlignet varmespredning. Denne ligevægt er afgørende for at bevare integriteten af wafernes overfladetemperatur.

Med egenskaber som korrosionshæmning, kemisk modstandsdygtighed og dermed en forlænget driftslevetid, løfter Wafer Carrier til MOCVD markant både kaliber og udbytte af waferne. Dens holdbarhed giver en direkte økonomisk fordel, og positionerer Wafer Carrier til MOCVD som et klogt indkøbsvalg til din halvlederproduktion.

Semicorex Wafer Carrier til MOCVD er omhyggeligt skræddersyet til de epitaksiale procedurer af wafere og udmærker sig ved sikker transport af wafers i højtemperaturovne. Dens holdbare ramme sikrer, at waferne forbliver intakte, og derved reducerer tilbøjeligheden til skade under de kritiske epitaksiale vækststadier.**