Wafer Holder

Semicorex waferholder er en kritisk komponent i halvlederfremstilling og spiller en nøglerolle i at sikre nøjagtig og effektiv håndtering af wafers under epitaksiprocessen. Vi er fast forpligtet til at levere produkter af højeste kvalitet til konkurrencedygtige priser og ser frem til at starte en virksomhed med dig.*

Send forespørgsel

Produkt beskrivelse

Semicorex Wafer Holder er genialt konstrueret med en kerne lavet af højrent grafit og omhyggeligt belagt med siliciumcarbid (SiC) for at opfylde de krævende krav til Liquid Phase Epitaxy (LPE) udstyr. Dens konstruktion og materialevalg er helt afgørende for at bevare integriteten af wafere under de højtemperaturprocesser, der er iboende i halvlederfremstilling.

Den SiC-belagte grafitwaferholder demonstrerer enestående modstandsdygtighed over for slid, en vital egenskab for at opretholde de præcise dimensioner og overfladekvalitet, der kræves for optimal wafer-håndtering. I LPE-processer er integriteten af waferholderens overflade altafgørende, da enhver nedbrydning eller ujævnhed kan resultere i defekter i waferen, hvilket fører til lavere udbytte og øget spild. SiC-belægningen sikrer, at waferholderen bevarer en glat, stabil overflade over gentagne cyklusser, hvilket bidrager til den overordnede pålidelighed og konsistens af epitaksiprocessen.

Ydermere forbedrer SiC-belægningen waferholderens termiske ydeevne. Siliciumcarbids høje termiske ledningsevne sikrer en jævn varmefordeling på tværs af waferen under epitaksiprocessen, hvilket er afgørende for at forhindre termiske gradienter, der kan forårsage vridning eller revnedannelse af waferne. Dette garanterer, at de endelige produkter opfylder de strenge kvalitetsstandarder, der kræves i halvlederfremstilling. Kombinationen af grafittens iboende termiske egenskaber med de ekstra fordele ved SiC-belægningen skaber en waferholder, der er i stand til at modstå de mest udfordrende termiske miljøer.

Wafer Holderens design er optimeret til dens anvendelse i LPE-udstyr. Waferholderen er præcist bearbejdet til at rumme wafers sikkert, hvilket minimerer risikoen for bevægelse eller fejljustering under epitaksiprocessen. Denne præcision er afgørende, da selv det mindste skift i waferpositionen kan føre til ujævn aflejring, hvilket påvirker ydeevnen af de halvlederenheder, der fremstilles. Den SiC-belagte grafitwaferholder giver den nødvendige stabilitet og sikrer, at wafers forbliver i den korrekte position gennem hele processen.