Sic coated wafer -bærere

Semicorex Sic Coated Wafer-bærere er avancerede komponenter, der understøtter skiver til processer med høj temperatur i halvlederanvendelser, såsom epitaksial vækst, diffusion og CVD. Luftfartsselskaberne giver strukturelle fordele ved grafit med høj renhed kombineret med maksimale overfladefordele ved at bruge en tæt og ensartetSic coatingFor optimal termisk stabilitet, kemisk resistens og mekanisk styrke under vanskelige forarbejdningsbetingelser.

Grafitkerne med høj renhed for optimal termisk ledningsevne

De sic coatede wafer-bærere er et substratmateriale af ultra-fine korn, grafit med høj renhed. Det er en effektiv termisk leder, der er både lys og bearbejdelig, den kan fremstilles i komplekse geometrier, som kræves af den unikke skivestørrelse og procesfaktorer. Grafit tilbyder ensartet opvarmning ved skiveoverfladen, der begrænser forekomsten af termiske gradienter og termiske behandlingsdefekter.

Tæt SIC -belægning for overfladeskema og proceskompatibilitet

Grafitbæreren er belagt med høj renhed, CVD -siliciumcarbid. SIC -belægningen giver uigennemtrængelig, porefri beskyttelse mod korrosion, oxidation og procesgasforurening fra arter, såsom brint, klor og silan. Slutresultatet er en lav-partikulær, hård bærer, der ikke nedbrydes eller mister dimensionel stabilitet, vælger at underkaste sig adskillige termiske cyklusser og repræsenterer et signifikant nedsat potentiale for skiveforurening.

Fordele og nøglefunktioner

Termisk resistens: SIC -overtræk er stabile til temperaturer over 1600 ° C, hvilket er optimeret til epitaxy og diffusionsbehov for høj temperatur og diffusion.

Fremragende kemisk resistent: Det tåler alle ætsende procesgasser og rengøringskemikalier og giver mulighed for længere levetid og mindre nedetid.

Generering af lav partikel: SiC -overfladen minimerer flager og partikeludkast og holder rengøring af procesmiljøet, der er afgørende for enhedsudbyttet.

Dimensionskontrol: Præcis konstrueret til at lukke tolerancer for at sikre ensartet skiveunderstøttelse, så den automatisk kan håndteres med skiver.

Omkostningsreduktion: længere levetid og lavere vedligeholdelsesbehov giver lavere samlede ejerskabsomkostninger (TCO) end traditionel grafit eller bare bærere.

Ansøgninger:

SIC Coated Wafer-transportører er vidt brugt til fremstilling af Power Semiconductors, Compound Semiconductors (såsom GaN, SIC), MEMS, LED'er og andre enheder, der kræver behandling af høj temperatur i aggressive kemiske miljøer. De er især vigtige i epitaksiale reaktorer, hvor overfladens renlighed, holdbarhed og termisk ensartethed direkte påvirker skivkvalitet og produktionseffektivitet.

Tilpasning og kvalitetskontrol

SemicorexSic coatedWafer -transportører produceres under strenge kvalitetskontrolprotokoller. Vi har også fleksibilitet med standardstørrelser og konfigurationer, og vi kan tilpassede ingeniørløsninger, der opfylder kundens krav. Uanset om du har et 4-tommer eller 12-tommers skiveformat, kan vi optimere wafer-bærere til vandrette eller lodrette reaktorer, batch- eller enkelt wafer-behandling og specifikke epitaxy-opskrifter.