SiC Susceptor til ICP Etch

Semicorex SiC Susceptor til ICP Etch er fremstillet med fokus på at opretholde høje standarder for kvalitet og konsistens. De robuste fremstillingsprocesser, der bruges til at skabe disse susceptorer, sikrer, at hver batch opfylder strenge ydelseskriterier, hvilket giver pålidelige og ensartede resultater i halvlederætsning. Derudover er Semicorex udstyret til at tilbyde hurtige leveringsplaner, hvilket er afgørende for at holde trit med halvlederindustriens hurtige omstillingskrav, hvilket sikrer, at produktionstidslinjer overholdes uden at gå på kompromis med kvaliteten. Vi hos Semicorex er dedikerede til at fremstille og levere højtydende SiC Susceptor til ICP Etch, der forener kvalitet med omkostningseffektivitet.**

Send forespørgsel

Produkt beskrivelse

Semicorex SiC Susceptor til ICP Etch er kendt for sin fremragende varmeledningsevne, som giver mulighed for hurtig og ensartet varmefordeling over overfladen. Denne funktion er afgørende for at opretholde en ensartet temperatur under ætseprocessen, hvilket sikrer høj præcision i mønsteroverførsel. Derudover minimerer SiCs lave termiske udvidelseskoefficient dimensionsændringer under varierende temperaturer, og bibeholder således strukturel integritet og understøtter præcis og ensartet materialefjernelse.

En af de iøjnefaldende egenskaber ved SiC Susceptor for ICP Etch er deres modstandsdygtighed over for plasmapåvirkning. Denne modstand sikrer, at susceptoren ikke nedbrydes eller eroderes under de barske forhold ved plasmabombardement, som er almindeligt i disse ætseprocesser. Denne holdbarhed øger pålideligheden af ætseprocessen og bidrager til fremstillingen af rene, veldefinerede ætsemønstre med minimal defekt.

SiC Susceptor for ICP Etch er i sagens natur modstandsdygtig over for korrosion af stærke syrer og baser, hvilket er en væsentlig egenskab for materialer, der anvendes i ICP-ætsningsmiljøer. Denne kemiske resistens sikrer, at SiC Susceptor for ICP Etch bevarer deres fysiske og mekaniske egenskaber over tid, selv når de udsættes for aggressive kemiske reagenser. Denne holdbarhed reducerer behovet for hyppig udskiftning og vedligeholdelse og reducerer derved driftsomkostningerne og øger oppetiden for halvlederfabrikationsfaciliteter.

Semicorex SiC Susceptor til ICP Etch kan konstrueres præcist til at opfylde specifikke dimensionskrav, hvilket er en kritisk faktor i halvlederfremstilling, hvor tilpasning ofte er nødvendig for at imødekomme forskellige waferstørrelser og behandlingsspecifikationer. Denne tilpasningsevne giver mulighed for bedre integration med eksisterende udstyr og proceslinjer, hvilket optimerer den samlede effektivitet og effektivitet af ætseprocessen.