Silicium epitaksi susceptorer

Du kan være sikker på at købe Silicon Epitaxy Susceptorer fra vores fabrik. Semicorex's Silicon Epitaxy Susceptor er et højkvalitets, højrent produkt, der bruges i halvlederindustrien til epitaksial vækst af wafer-chippen. Vores produkt har en overlegen belægningsteknologi, der sikrer, at belægningen er til stede på alle overflader, hvilket forhindrer afskalning. Produktet er stabilt ved høje temperaturer op til 1600°C, hvilket gør det velegnet til brug i ekstreme miljøer.

Send forespørgsel

Produkt beskrivelse

Vores silicium-epitaksi-susceptorer er fremstillet ved CVD-kemisk dampaflejring under højtemperatur-kloreringsbetingelser, hvilket sikrer høj renhed. Produktets overflade er tæt, med fine partikler og høj hårdhed, hvilket gør det korrosionsbestandigt over for syre, alkali, salt og organiske reagenser.
Vores produkt er designet til at opnå det bedste laminære gasstrømningsmønster, hvilket garanterer ensartet termisk profil. Vores siliciumepitaksisceptorer forhindrer enhver forurening eller diffusion af urenheder under den epitaksiale vækstproces, hvilket sikrer resultater af høj kvalitet.
Hos Semicorex fokuserer vi på at levere omkostningseffektive produkter af høj kvalitet til vores kunder. Vores siliciumepitaksisceptorer har en prisfordel og eksporteres til mange europæiske og amerikanske markeder. Vi sigter efter at være din langsigtede partner, der leverer ensartede kvalitetsprodukter og enestående kundeservice.

Parametre for siliciumepitaksisceptorer

Hovedspecifikationer for CVD-SIC belægning
SiC-CVD egenskaber
Krystal struktur	FCC β-fase
Tæthed	g/cm³	3.21
Hårdhed	Vickers hårdhed	2500
Kornstørrelse	μm	2~10
Kemisk renhed	%	99.99995
Varmekapacitet	J·kg-1 ·K-1	640
Sublimeringstemperatur	℃	2700
Feleksural styrke	MPa (RT 4-punkt)	415
Youngs modul	Gpa (4pt bøjning, 1300 ℃)	430
Termisk udvidelse (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Termisk ledningsevne	(W/mK)	300

Parametre for siliciumepitaksisceptorer

- Undgå at skalle af og sørg for belægning på alle overflader
Højtemperaturoxidationsbestandighed: Stabil ved høje temperaturer op til 1600°C
Høj renhed: Fremstillet af CVD kemisk dampaflejring under højtemperaturkloreringsbetingelser.
Korrosionsbestandighed: høj hårdhed, tæt overflade og fine partikler.
Korrosionsbestandighed: syre, alkali, salt og organiske reagenser.
- Opnå det bedste laminære gasstrømningsmønster
- Garanterer ensartethed af termisk profil
- Undgå enhver forurening eller diffusion af urenheder