Silikone piedestal båd

Semicorex Silicon Pedestal Boat er en ultra-ren wafer-bærer, der er blevet konstrueret med høj renhed og præcision til at understøtte højtemperaturhalvlederprocesser såsom oxidation, diffusion og LPCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition). Denne waferholder er lavet af 9N (99,9999999%)højrent siliciumfor at sikre enestående renhed, termisk ekspansionskoefficient stabilitet og mekanisk præcision til wafer-understøttelse og ensartet proceskontrol i ultra-rene miljøer.

Efterhånden som halvlederens geometrier fortsætter med at skrumpe, har behovet for ultra-rene og termisk kompatible waferhåndteringskomponenter aldrig været så efterspurgt. Silicon Piedestal Boat opfylder disse krav med høj dimensionel nøjagtighed og uovertruffen renhed til brug i avancerede ovnsystemer, der opererer mellem 1100°C og 1250°C.

Siliciumbådstrukturen kan tilpasses til at imødekomme kundernes krav, herunder rillestangsform, rilletandlængde, form, hældningsvinkel og total wafer-belastningskapacitet. Højtemperatur siliciumbåde kan effektivt reducere kontaktskader på siliciumwafere, hvilket forbedrer procesudbyttet. Dens højtemperatur "skridfri tårne"-design understøtter kun wafere ved spidsen af ​​støttetanden. Sammenlignet med siliciumcarbid er silicium relativt mindre hårdt, hvilket reducerer mekaniske skader på wafere, hvilket forbedrer gitterkvaliteten og effektivt reducerer produktionsomkostningerne.

Piedestalbåden fås ihøjrent siliciumfor at fjerne forureningsrisici forbundet med ikke-siliciummaterialer. Platformen deler den samme kemiske sammensætning som aktivt brugte wafere, hvilket minimerer uønskede reaktioner eller ion-diffusion under højtemperaturprocesser. Materialehomogenitet reducerer væsentligt den fysiske identitet af partikler og metalliske urenheder for ensartet høj waferkvalitet og højt enhedsudbytte gennem gentagne produktionscyklusser.

Semicorex Silicon Piedestal Boat har præcist designede wafer-slidser kombineret med lodrette støttestrukturer, der sikrer, at wafers forbliver perfekt justeret og adskilt under opvarmningscyklussen. Dens dimensionsstabilitet er enestående, hvilket sikrer, at piedestalbåden ikke deformeres, bøjes eller skifter i ekstreme temperaturer, hvilket sørger for god temperatur- og gasfordeling over hver wafer. Denne dimensionsstabilitet har en øjeblikkelig positiv effekt på ensartetheden af ​​filmtykkelsen under oxidation og diffusion og sørger for lavere defektantal samt bedre gentagelsesevne.

Den primære fordel ved siliciumsøjlebåden er dens optimerede mekaniske og termiske egenskaber. Hårdheden af ​​silicium sammenlignet med SiC eller kvarts vil bidrage til at sænke mikro-ridsninger og partikelgenerering på grund af wafervibrationer eller bevægelse under opvarmet ekspansion. Dette gælder især for bagsidefølsomme wafere, hvor integriteten af ​​waferoverfladen er afgørende for udbytte og enhedens ydeevne.

Piedestalbåden har god termisk ledningsevne og en lav termisk udvidelseskoefficient, der giver varmeoverførselskarakteristika, samtidig med at formen og den strukturelle soliditet bevares med flere opvarmnings- og afkølingscyklusser. Det robuste design giver også en lang levetid med minimal deformation gennem ekstreme ovnforhold.

Semicorex leverer brugerdefinerede designs til en række udstyrskonfigurationer, herunder waferdiameter, slidsantal, piedestalhøjde og geometrivariationer. Hvert produkt inspiceres for renhed, dimensionsmåles og testes for termisk ledningsevne, alt sammen for at opfylde de højeste standarder i halvlederfremstillingsprocessen.

Siliciumsøjlebåden er kompatibel med oxidations- og diffusionsprocesser såvel som med LPCVD og udglødningsapplikationer, der kræver uovertruffen temperaturensartethed og kontamineringskontrol. Siliciumsøjlebåden er kompatibel med andre siliciumovnskomponenter såsom injektorrøret, foringsrøret og waferens bæresystem, og vedligeholder materialet og procesbærersystemet.