Vakuumchucks

Semicorex Vacuum Chucks er præcisions-konstruerede løsninger designet til at give sikre, stabile og effektive håndtering af skiver i halvlederproduktionsprocesser. Disse vakuumchucks bruges hovedsageligt til at holde skiver i forskellige behandlingstrin, hvilket sikrer minimal skade på skiverne, maksimal stabilitet og forbedret proceseffektivitet. Vores vakuumchucks fås i en række basismaterialer og keramiske plader, der tilbyder skræddersyede løsninger til at imødekomme de forskellige behov i halvlederindustrien og andre præcisionsindustrier.

Nøglefunktioner og materialer

Semicorex tilbyder en række basismaterialeindstillinger til vakuumchuck, hvilket tillader tilpasning baseret på specifikke applikationskrav:

Basismaterialer:

• SUS430: Et basismateriale i rustfrit stål, der er kendt for sin styrke og korrosionsbestandighed, hvilket giver fremragende mekanisk stabilitet.
• Aluminiumslegering 6061: Let, men alligevel stærk, denne aluminiumsbase tilbyder høj korrosionsbestandighed og er ideel til anvendelser, hvor vægt er en bekymring.
• Aluminiumoxid -keramik (99% aluminiumoxid): Tilbyder høj termisk stabilitet og slidstyrke. Det er et fremragende valg til miljøer med høj præcision, hvor termisk modstand er kritisk.
• Granit: Granit, der er kendt for sin stivhed og overlegne vibrationsdæmpende egenskaber, tilbyder fremragende stabilitet og præcision under Wafer-håndtering.
• Siliciumcarbid (SIC) keramik: tilbyder høj hårdhed, termisk ledningsevne og modstand mod kemisk korrosion. Det er perfekt til høj temperatur og aggressive miljøer.

Keramiske plader:

Aluminiumoxid (Al₂o₃): Aluminiumoxidplader er kendt for deres høje elektriske isoleringsegenskaber, slidstyrke og høj temperaturstabilitet. De er velegnede til miljøer, hvor minimal forurening og høj ydeevne er afgørende.

Siliciumcarbid (SIC): SIC -keramiske plader giver enestående hårdhed, høj termisk ledningsevne og stabilitet ved forhøjede temperaturer, hvilket gør dem ideelle til avancerede waferhåndteringsprocesser i halvlederproduktionen.

Valg af fladhed og materialeudvælgelse

Fladheden i Chucks overflade er en kritisk faktor for at sikre korrekt waferhåndtering og optimale procesresultater. Det materielle valg påvirker fladhedspræcisionen såvel som den samlede vægt og termiske egenskaber ved vakuumchuck.

Fladhed præcision:

Aluminiumslegering 6061: Giver fremragende fladhed med præcision, hvilket gør det til et populært valg til mindre krævende waferhåndteringsopgaver.

SUS430: Mens han tilbyder solid mekanisk stabilitet, har SUS430 en lidt lavere fladhed præcision end aluminiumslegering.

Aluminiumoxid -keramik (99% aluminiumoxid): Tilbyder den bedste fladhedspræcision på grund af dens højdimensionelle stabilitet under høje temperaturer og mekanisk stress.

Granit: Granit er kendt for sin stabilitet og giver præcis fladhed, især i vibrationsfølsomme miljøer.

Siliciumcarbidkeramik: Tilvejebringer enestående fladhedspræcision og er ideel til håndtering med høj præcision i håndtering af høj temperatur.

Vægtovervejelser

Vægten af ​​vakuumchuck er en anden vigtig faktor, især til applikationer, hvor Chucks lethed med håndtering og manipulation er en vigtig overvejelse.