Porøs Sic Chuck

Semicorex Porous Sic Chuck er en keramisk del, der er samlet med præcision til sikker, effektiv håndtering af waferunderlag til halvlederanvendelser gennem processtrin som inspektion, test og litografi. Chuck er fremstillet af mikroporøs siliciumcarbidkeramik (SIC). SIC har mekanisk styrke, kemisk resistens og termiske stabilitetsegenskaber, der er nødvendige til avancerede halvlederproduktionsmiljøer.

Et væsentligt kendetegn ved den porøse Sic Chuck er dens unikke mikrostruktur, der udviser en porøsitet på 35%-40%. Med porøsiteten af chuck tæt kontrolleret tillader det overliggende design vakuumsugning at blive jævnt udleveret over Chuck, der genererer ensartede stabile og ikke-kontaktstøtte til typisk delikate wafer-underlag: silicium eller GaN og andre sammensatte halvleder.  Vakuumsugetilstand undgår både partikelforurening og mekanisk skade og bevarer derved Wafer -integritet under processen.

Chuckens keramiske krop er primært SIC med høj renhed med anden keramik, såsom aluminiumoxid (Al2O3), der potentielt bruges til et begrænset antal funktionelle lag afhængigt af applikationen. Forskningen og udviklingen af materialet tillader porestørrelse og distribution at håndtere at designe luftstrøm og holde kraft afhængigt af skivestørrelser og procesforhold. Hvis det er vigtigt at kontrollere vakuumet på tyndere skiver, inkorporeres mindre porestørrelse. For hurtigere strømningshastigheder, hvor det er relevant, vil den større porestørrelse blive brugt.

Porøse SIC -chucks udviser farvevariation som et resultat af de variable porestørrelser, keramiske sammensætninger og fyringsbetingelser. Sic chucks har en tendens til at være sort eller mørkegrå, da farven på siliciumcarbid enten er grå eller sort, men chucks med stort aluminiumoxidindhold har en tendens til at være off-white i farve. Farverne i farve har ingen indflydelse på produktets ydelse og repræsenterer kun de konstruerede egenskaber, der blev oprettet til specifikke applikationer til at overholde specifikke kundebehov.

I high-end Wafer-behandlingsværktøjer er termisk stabilitet og kemisk inertitet de to vigtigste funktioner. Siliciumcarbid giver fremragende modstand mod korrosionsgasser og termisk cykling. Den porøse SIC Chuck fungerer med succes i vakuumkamre og plasma -ætsningsværktøjer, og den fortsætter med at fungere godt med hurtigt skiftende temperaturer. Deres evne til at opretholde den dimmensionelle stabilitet af chuck sikrer, at skiven forbliver på samme sted, selvom nøjagtighedskravene kan være under sub-mikron afhængigt af processen, der bidrager til den dimensionelle stabiliserede, sikrer nøjagtighed.

Semicorex porøse SIC -chucks er lavet ved hjælp af autoriserede formnings- og sintringsprocedurer, der giver ensartet porøsitet, høj bøjningsstyrke og lav termisk ekspansion. Hver chuck inspiceres for porestruktur, fladhed og vakuumydelse for at sikre et pålideligt og gentagne produkt. Brugerdefinerede design er også tilgængelige til at rumme specifikke skivestørrelser og systemintegrationskrav, såsom bagside-gasstrømningskanaler eller monteringsfunktioner.

Afslutningsvis er den porøse SIC Chuck et højt pålidelighedssubstratstøttesystem, der er omhyggeligt designet til at arbejde sammen med kravene til behandling af præcisionsskiven. Med en høj vakuumholdsevne, tilpasselig porestruktur og enestående materialestabilitet er det et uundværligt produkt i dagens halvlederfremstillingslinjer.