Porøs sic plade

Semicorex Porous Sic Plate er et højtydende keramisk materiale designet til avanceret halvleder og præcisionsproduktionsapplikationer. Denne plade er konstrueret med en fint kontrolleret porøs struktur og tilbyder enestående mekanisk styrke, termisk stabilitet og kemisk modstand, hvilket gør det til et ideelt valg til brug som enVakuum Chucki halvlederbehandling.

Forarbejdet ved præcisions sintring og poredannende har den porøse SIC-plade ensartet porøsitet og optimeret luftpermeabilitet og sikrer sikker og stabil adsorption af tynde skivere, glaspaneler og andre delikate underlag. Den omhyggeligt kontrollerede porestørrelsesfordeling vil muliggøre effektiv vakuumsugning, mens de holder sine strukturelle bestanddele sammen indtil det sidste atom, praktisk talt forebyggelse af deformation eller skade for det materiale, der er beregnet til videre behandling: skiver.

Dens fremragende termiske ledningsevne gør porøs SIC -plade til en af ​​de bedste kandidater til hurtig varmeafledning med ensartet fordeling af temperaturen over overfladen. Dette bliver vigtigt i mange slags halvlederfremstillingsprocesser til opretholdelse af stabilitet inden for termiske forhold, hvilket direkte vedrører udbyttet og kvaliteten af ​​produktet. Siliciumcarbid præsenterer også slidstyrke godt og et relativt højt hårdhedsniveau, hvilket giver et længere liv for pladen, da overfladeslitage og kontaminering er forsinket over meget udvidet anvendelse.

Kemisk inertitet er en anden vigtig egenskab ved den porøse Sic -plade. Det udviser stærk modstand mod syrer, alkalier og plasmaeksponering, hvilket gør det velegnet til barske miljøer inden for halvlederfremstilling, såsom ætsning, afsætning og kemiske forarbejdningskamre. SIC's ikke-reaktive karakter forhindrer uønskede kemiske interaktioner, bevarer renheden af ​​de forarbejdede materialer og forbedrer produktionen på produktionen.

Desuden letter den lette karakter af Porous SIC kombineret med sine robuste mekaniske egenskaber let håndtering og integration i præcisionsmaskineriet. Den lave termiske ekspansionskoefficient sikrer dimensionel stabilitet, selv under ekstreme temperatursvingninger, hvilket minimerer risikoen for vridning eller forkert justering under drift.

Den porøse SIC -plade kan tilpasses til at imødekomme specifikke applikationskrav, herunder variationer i porøsitet, tykkelse og overfladebehandling. Avancerede bearbejdnings- og poleringsteknikker kan påføres for at opnå ultra-flade overflader med minimal ruhed, hvilket yderligere forbedrer dens ydeevne som et vakuumchuck-materiale.

Semicorex porøs siliciumcarbidplade er en højt specialiseret keramisk komponent, der tilbyder en kombination af høj styrke, fremragende termisk og kemisk stabilitet og overlegen slidstyrke. Dens unikke porøse struktur muliggør effektiv vakuumsugning, hvilket sikrer sikker waferhåndtering i halvleder- og præcisionsindustrier. Som et resultat er det et vigtigt materiale til applikationer med høj præcision, hvor ydeevne, holdbarhed og pålidelighed er vigtigst.