Semicorex introducerer sin SiC Disc Susceptor, designet til at højne ydeevnen af Epitaxy, Metal-Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD) og Rapid Thermal Processing (RTP) udstyr. Den omhyggeligt konstruerede SiC Disc Susceptor har egenskaber, der garanterer overlegen ydeevne, holdbarhed og effektivitet i høje temperaturer og vakuummiljøer.**
Læs mereSend forespørgselSemicorex Graphite Thermal Field kombinerer banebrydende materialevidenskab med en dyb forståelse af krystalvækstprocesser, det leverer en innovativ løsning, der sætter halvlederindustrien i stand til at opnå nye niveauer af ydeevne, effektivitet og omkostningseffektivitet.**
Læs mereSend forespørgselSemicorex LPE SiC-Epi Halfmoon er et uundværligt aktiv i epitaksens verden, der giver en robust løsning på udfordringerne fra høje temperaturer, reaktive gasser og strenge renhedskrav.**
Læs mereSend forespørgselSemicorex CVD TaC Coating Cover er blevet en kritisk muliggørende teknologi i de krævende miljøer inden for epitaksereaktorer, kendetegnet ved høje temperaturer, reaktive gasser og strenge renhedskrav, nødvendiggør robuste materialer for at sikre ensartet krystalvækst og forhindre uønskede reaktioner.**
Læs mereSend forespørgselSemicorex Graphite Single Silicon Pulling Tools dukker op som ubesungne helte i krystalvækstovnes brændende smeltedigel, hvor temperaturerne stiger og præcisionen hersker. Deres bemærkelsesværdige egenskaber, finpudset gennem innovativ fremstilling, gør dem essentielle for at lokke fejlfri enkeltkrystal silicium til eksistens.**
Læs mereSend forespørgselSemicorex TaC Coating Guide Ring fungerer som en altafgørende del i udstyr til metal-organisk kemisk dampaflejring (MOCVD), hvilket sikrer den præcise og stabile levering af forstadiegasser under den epitaksiale vækstproces. TaC Coating Guide Ring repræsenterer en række egenskaber, der gør den ideel til at modstå de ekstreme forhold, der findes i MOCVD-reaktorkammeret.**
Læs mereSend forespørgsel