SiC Cantilever-pagaj

Semicorex SiC (Silicon Carbide) Cantilever Paddle er en afgørende komponent, der bruges i halvlederfremstillingsprocesser, især i diffusions- eller LPCVD (Low-Pressure Chemical Vapor Deposition) ovne under processer som diffusion og RTP (Rapid Thermal Processing). Det tjener det formål at understøtte og transportere wafers inden for procesrøret i disse ovne.

Semicorex SiC Cantilever Paddle er primært sammensat af siliciumcarbid, et robust og termisk stabilt materiale, der er kendt for sin modstandsdygtighed over for høje temperaturer og fremragende mekaniske egenskaber. SiC er valgt for dets evne til at modstå de barske forhold, der opstår i højtemperaturprocesmiljøer i halvlederovne. Designet af SiC Cantilever Paddle tillader den at strække sig ind i ovnens procesrør, mens den er fast forankret i den ene ende uden for røret. Dette design sikrer stabilitet og støtte til de wafere, der behandles, samtidig med at interferens med det termiske miljø inde i ovnen minimeres.

SiC Cantilever Paddle skal bære halvlederwafere sikkert i procesrøret under forskellige højtemperaturprocesser såsom diffusion og RTP. Dens robuste konstruktion sikrer, at den kan modstå de ekstreme temperaturer og kemiske miljøer, der opstår under disse processer, uden nedbrydning eller fejl. SiC Cantilever Paddles er designet til at være kompatible med en bred vifte af halvlederwaferstørrelser og -former, der almindeligvis anvendes i industrien. De kan ofte tilpasses til at imødekomme specifikke ovnkonfigurationer og proceskrav.