SiC Keramiske Vacuum patroner

Præcisionskonstruerede mikrohuller er ensartet fordelt over overfladen af ​​SiC keramiske vakuumpatron, hvilket muliggør pålidelig forbindelse til det eksterne vakuumudstyr. Under drift aktiveres vakuumpumpen for at trække luft gennem hullerne, hvilket skaber et undertryksmiljø mellem halvlederwaferen og vakuumpatron. Dette tillader derfor, at waferen holdes ensartet og fast på vakuumpatronoverfladen.

Fordelene ved Semicorex SiC keramiske vakuum patroner

1.Premium materialevalg

SemicorexSiC keramiske vakuum patronervælg omhyggeligt siliciumcarbid med høj renhed som råmateriale. Semicorex’ stringente kontrol over materialets renhed forhindrer effektivt waferforurening forårsaget af urenheder under drift og opfylder dermed de voksende krav til produktionens renhed og udbytte.

2. Fin bearbejdning præcision

Semicorex SiC keramiske vakuumpatrons overflade gennemgår spejlpolering, og deres fladhed kontrolleres til 0,3-0,5 μm. Denne ekstreme planhedskontrol kan muliggøre en optimal kontakteffekt, hvilket i høj grad mindsker risikoen for waferridser forårsaget af ru kontaktflader. Hvert mikrohul og hver rille i vakuumpatron er præcisionsbearbejdet, hvilket giver en stabil og ensartet adsorptionseffekt under drift.

3.Fleksible tilpasningstjenester

Semicorex giver vores værdsatte kunder tilpasningstjenester og tilbyder forskellige størrelsesmuligheder for SiC keramiske vakuumpatron, såsom 6-tommer, 8-tommer, 12-tommer. Vi kan skræddersy dimensionelle tolerancer, porestørrelse, fladhed og ruhed for at imødekomme kundernes krav, hvilket sikrer et perfekt match med dit halvlederbehandlings- og inspektionsudstyr.

4. Fremragende holdbarhed og levetid

SemicorexSiC keramikVakuumpatroner dannes ved isostatisk presning og sintres derefter ved høj temperatur. Efter denne specielle procesteknologi har Semicorex SiC keramiske vakuumpatron flere fremragende ydeevne, såsom letvægts, høj stivhed, stærk slidstyrke og lav termisk udvidelseskoefficient. Disse egenskaber gør det muligt for Semicorex SiC keramiske vakuum patroner konstant at blive betjent under de udfordrende forhold ved håndtering og behandling af halvlederwafer.