SiC procesrør

Semicorex SiC (Silicon Carbide) procesrør er en specialiseret komponent, der bruges i wafer varmebehandlingsprocesser, især i applikationer, der kræver høje temperaturer, korrosive atmosfærer eller begge dele. Det er designet til at give et beskyttende og kontrolleret miljø for halvlederwafere under varmebehandling eller termisk behandling.

Procesrøret er omhyggeligt konstrueret til at skabe et forseglet kammer, hvor wafers placeres til varmebehandling. Det fungerer som en barriere, der forhindrer wafers direkte kontakt med det omgivende miljø. Denne isolering er afgørende for at bevare renheden af ​​forarbejdningsatmosfæren og beskytte waferne mod forurening.

Inde i SiC procesrøret foregår wafervarmebehandlingen. Dette kan omfatte forskellige processer såsom udglødning, oxidation, diffusion og andre termiske behandlinger, der er nødvendige for at modificere wafermaterialets egenskaber. Rørets egenskaber, såsom dets høje varmeledningsevne og modstandsdygtighed over for kemiske angreb, er med til at sikre ensartet temperaturfordeling og beskyttelse af waferne.

SiC procesrør er kritiske komponenter i wafer varmebehandlingsprocesser. Deres modstandsdygtighed over for høje temperaturer, kemiske inertitet og evne til at skabe et kontrolleret miljø sikrer en vellykket udførelse af termiske behandlingstrin, hvilket fører til produktion af højkvalitets halvlederwafere.